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半导体制造业废气处理设备


对于半导体厂家而言,在去光阻工序中常会使用的去光阻液,虽绝有些工厂车间目前都已采用冷凝吸收器进行去光阻工序排气 […]


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    • 产品介绍

    对于半导体厂家而言,在去光阻工序中常会使用的去光阻液,虽绝有些工厂车间目前都已采用冷凝吸收器进行去光阻工序排气前的预处理净化并回收,回收效率约在90%以上,但对于其所衍生的低浓度(<5ppm)有机恶臭污染物,碍于既有处理等级限制,无法将所有问题一并解决,也长期造成从业者许多困扰,这些含硫化合物气体不但是造成高科技业或相关园区废水厂空气污染臭味投诉的主因,同时也是使被污染的空气导引进入如半导体晶圆制造厂及TFT-LCD。

    建议技术

    沸石转轮浓缩+废气燃烧炉系统沸石浓缩转轮的主要成分为高硅铝比沸石的吸附剂,可利用沸石特定孔径对于半导体行业产生的VOCs废气主要成分具高吸、脱附效率的特性,使原本具有高风量、低浓度特性的VOCs废气,经过沸石转轮浓缩转换成低风量、高浓度的废气,降低后端焚烧设备的燃料成本。我公司拥有转轮高温脱附的专利技术,可在>250℃温度下进行**率的脱附工作,使高沸点VOCs残留问题迎刃而解。

    沸石浓缩转轮焚烧系统主要是由沸石浓缩转轮串连热焚烧炉(Thermal Oxidizer:TO、CTO、RTO、RCO)所组成的VOCs废气处理系统,车间废气先经由沸石转轮吸附VOCs成分,然后浓缩转轮脱附而出的高浓度废气进入温度高于1,350℉(732ºC)的燃烧炉中进行分子氧化分解。燃烧处理后的多余热能将运用于预热进入燃烧炉的高浓度废气,以及用于提供脱附浓缩转轮所吸附的VOCs所需的热气。蜂巢式(honeycomb)沸石转轮的结构吸附VOCs所产生的压降相当低,可使风机所需要的电力减到最少。由于处理浓缩后的风量仅为进入系统风量的5%到20%,因此可相对缩小焚烧设备的尺寸,以维持更低的燃料成本。

    废气焚烧炉主要可应用于含有害、臭味气体的处理,尤其针对挥发性有机气体(VOCs),因为VOCs具有热值,废气本身可作为燃料,因此采用热焚烧的方式处理对于VOCs的处理效率相当高(>99%)。废气焚烧炉主要种类包括直燃式焚烧炉(TO)、催化式焚烧炉(CTO)、蓄热式焚烧炉(RTO)以及蓄热式催化焚烧炉(RCO)。

    直燃式焚烧炉具有稳定的处理效率达99.9%;催化式焚烧炉可以透过催化剂的催化分解的功能,有效降低热焚烧所需的温度,可减少能源的耗用;蓄热式焚烧炉利用陶瓷蓄热材的蓄热功能,将焚烧所产生的废热利用转换处理方向的方式重复进行热回收,热回收效率可达95%,是一种更有效率、并且使用更少能源的焚烧设备,且对于VOCs的处理效率可达>98%,其型式可分为双槽、三槽、多槽及旋转式。也可选用结合催化及蓄热材功能的RCO焚烧设备。

    巴威是了解半导体和电子产品制造业的行业要求,可根据车间情况提供效率稳定、低运行成本的处理方案。